Verfahren und Vorrichtung zur photoinduzierten Kontrolle des anisotropen Ätzens von kristallinem Silizium
| Author: | Ulrich MeschederORCiDGND, Christiane Kötter |
|---|---|
| URL: | https://depatisnet.dpma.de/DepatisNet/depatisnet?action=bibdat&docid=DE000019811965A1 |
| Document Type: | Other |
| Language: | German |
| Year of Completion: | 1998 |
| Release Date: | 2018/09/06 |
| Tag: | Patent |
| Open-Access-Status: | Open Access |
| Patent Number: | DE000019811965A1 |
| Country of Patent Application: | Deutschland |
| Patent Application Year: | 1998 |
| Patent Application: | 19.03.1998 |
| Licence (German): |  Urheberrechtlich geschützt |